无掩模光刻用打印材料
从晶圆级图案化到母版模板的制备，无掩模光刻对分辨率与高通量稳定性的要求同样严苛。Nanoscribe 的树脂专为 无掩模灰度光刻（2GL®） 优化设计，具备低体积收缩以确保精确的轮廓成形、高紫外灵敏度以实现高效曝光，以及极其光滑的表面品质。这些材料配方在形状精度、附着力与机械稳定性方面表现出色，可在直接制造或母版复制应用中获得高度可重复的结果。
欢迎探索我们的材料组合，找到最契合您应用需求的树脂解决方案。
全新 IPX-Clear
高透光率树脂，适用于快速 2GL 原型制作
IP-S
表面光滑、精度优异的树脂，适用于微米与亚毫米级零件
IP-Dip2
高分辨率树脂，适用于极细微与高纵横比结构的制造
IPX-S
高速且高精度的树脂，用于 2GL 原型与母版加工
OrmoComp®
理想微光学母版专用树脂 ：由 microresist technology 提供
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