激光聚变靶
Nanoscribe 基于纳米尺度增材制造技术，通过快速且精确的实验迭代，大幅加速了聚变靶的研发过程。在单步打印中即可获得超光滑表面与复杂的纳米多孔结构，为可扩展的聚变能源探索开辟了新路径。
设计- 打印 - 点燃
惯性约束聚变可被视为实现丰富且清洁能源的有力途径 。然而，传统制备方法（如基于芯模的气相沉积和液滴微胶囊化技术）在精度、通量以及工艺复杂性方面存在显著局限，从而制约了实验优化进程。 Nanoscribe 的增材制造（AM）解决方案克服了这些障碍，大大加快了从初始概念到优化聚变靶的路径。通过 2GL 技术可以打印出具有高度可重复性的聚变靶。
2GL 技术打印聚变靶
Nanoscribe 的双光子灰度光刻（2GL®）是一项先进的增材微纳制造技术，它能够在单步工艺中以无与伦比的精度生产惯性约束聚变靶。该技术将具有纳米级表面光滑度的致密外壳与高分辨率三维打印泡沫晶格相结合，从而形成复杂的低密度靶结构。
研究人员现在可以快速进行新设计的实验迭代，有可能绕过耗时的模拟过程，并迅速确定最优几何结构。通过结合亚微米级分辨率、高度可重复的结构以及前所未有的设计自由度，这些三维打印靶可直接促进聚变产额的提升，并有助于更清晰地解读内爆实验数据。
这些能力使 2GL 成为实验室和未来聚变电站的首选方法，因为它独特地支持探索性研究以及可扩展、成本高效的生产。
高分辨率三维打印的关键优势
Nanoscribe 通过超快三维打印的无与伦比精度，加速了聚变靶的优化与可扩展性。双光子灰度光刻在该应用中的具体优势包括：
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无限的几何可能性：支持多样化的靶材几何形状，便于快速实验迭代，并可能减少对模拟循环的依赖。
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精度保证一致结果：亚微米分辨率、外壳表面粗糙度 <10 nm、复杂的纳米多孔泡沫结构可在单一制造步骤中同时实现。
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可重复和确定性的生产：从 CAD 到靶材的系统化制造确保了可重复的打印结果，相较于传统制造方法能够获得一致、可靠的性能数据。
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可扩展性与指数级加速：2PP 技术的持续发展带来类似摩尔定律的产能提升，有望支持未来聚变电站的可行性。
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真正的单步生产工艺：无需组装、模具或工具 —— 最大限度地降低了变异性、交付时间与成本。
您的问题解答：用于激光聚变靶的三维打印
为何选择三维打印的激光聚变靶？
Nanoscribe 的三维打印聚变靶可实现快速实验验证、超高精度的几何控制以及可重复、可预测的性能表现，通常能够减少冗长的数值模拟过程。其增材制造工艺赋予前所未有的设计自由度，可在单一步骤中构建复杂且新颖的几何结构，从而降低靶件间的差异性、改善内爆对称性，并为可扩展、具成本效益的聚变能源奠定基础。
材料是否含有高 Z 元素？
不含。Nanoscribe 的光刻材料完全为有机光聚合物，不包含高 Z 元素。这确保了在实验过程中尽量减少非期望的 X 射线吸收，并维持可预测的激光聚变内爆物理特性。
三维打印泡沫结构的最小特征尺寸是多少？
我们能够实现泡沫支架（strut）在长度、厚度和宽度三个方向上低于 400 nm 的结构特征。整个制造过程允许对特征尺寸进行精确控制，最低可达 100 nm，从而支持高度复杂的设计，兼具优异的形状精度和表面质量。
氘代树脂是否兼容三维打印？
Nanoscribe 目前尚未提供商业化氘代树脂。然而，我们的系统完全支持自定义光聚合树脂的使用，包括氘代配方。此外，打印设备可在受控气氛条件下运行，能够满足涉及氘代材料的前沿研究与应用需求。
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