广泛应用于研究，手板定制。
Nanoscribe的无掩模光刻系统在三维微纳制造领域是一个不折不扣的多面手，由于其卓越的通用性、与材料的普适性和便于操作的软件工具，在科学和工业项目中备受青睐。
这种可快速打印的微结构在科研、手板定制、模具制造和小批量生产中具有广阔的应用前景。也就是说，在纳米级、微米级以及中尺度结构上，可以直接生产用于工业批量生产的聚合物母版。
看看3D微制造的机遇吧！
Industrial mastering
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Integrated photonics
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Scientific microfabrication
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Industrial mastering
Nanoscribe的双光子灰度光刻激光直写技术(2GL ®)可用于工业领域2.5D微纳米结构原型母版制作。2GL通过创新的设计重新定义了典型复杂结构微纳光学元件的微纳加工制造。该技术结合了灰度光刻的出色性能，以及双光子聚合的亚微米级分辨率和灵活性。
作为全球第一台灰度光刻激光直写系统，Quantum X可以打印出具有出色形状精度和光学质量表面的高精度微纳光学聚合物母版，可适用于批量生产的流水线工业程序，例如注塑，热压花和纳米压印等加工流程，从而拓展微纳加工工业领域的应用。2GL与这些批量生产流水线工业程序的结合得益于新技术的亚微米分辨率和灵活性的特点，同时缩短创新微纳光学器件（如衍射和折射光学器件）的整体制造时间。
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Scientific microfabrication
Nanoscribe公司的Photonic Professional GT2系统把双光子聚合技术融入强大了3D打印工作流程，实现了各种不同的打印方案。双光子聚合技术用于3D微纳结构的增材制造，可以通过激光直写而避免使用昂贵的掩模版和复杂的光刻步骤来创建3D和2.5D微结构制作。 Photonic Professional GT2系统可以实现最高精度的3D打印，突破了微纳米制造的限制。该打印系统的易用性和灵活性的特点配以广泛的打印材料选择使其成为理想的实验研究仪器和多用户设施。
超过3000名科研人员通过使用该系统实现了多项应用领域的关键创新，并且发表了超过850篇论文并刊登在经同行评审期刊上， 涉及应用包括微纳光学元件，微流道设备，微纳机械器件以及材料工程的超材料和生命科学的细胞支架等领域。
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Integrated photonics
集成光子电路（PIC）作为一项关键的技术，可以缩小紧凑型功能性光子组件的尺寸并降低成本，适用于光通信，生物传感器，环境监控和成像以及量子技术等应用领域。Nanoscribe的3D微纳加工技术具有极高设计自由度的特点，可以在各种材料（例如InP, SOI and Si3N4 ）上打印包括自由空间微纳光学，光波导以及混合折射及衍射光学元件等微纳结构，可以直接在晶片，芯片，激光器，单根光纤和光纤阵列及混合模块上打印高精度微纳器件。
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