通过3D直接打印实现晶圆级批量生产
利用2GL®等高性能3D打印技术，直接打印2.5D和3D结构，实现具有亚微米特征的精密零件从小批量到大批量的生产。充分发挥晶圆级生产优势，实现轻松的批量定制和工业规模的制造产能。
利用专有技术
最大化您的生产效率
晶圆级直接3D打印为工业化生产亚微米特征且表面质量优异的光子学、微光学、微机电系统（MEMS）及微机电光系统（MOEMS）零件打开了新可能。借助我们创新的双光子灰度光刻技术（2GL®）——行业领先的高分辨率增材制造技术，实现特征尺寸精确控制至100纳米。简化高精度结构在最大8英寸晶圆上的生产流程，实现可扩展的批量生产和晶圆级制造。
加速纳米与微米制造流程
先进科学微制造平台
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业界成熟的立式打印系统，支持晶圆级批量生产及Dip-in激光光刻（DiLL）技术
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单夜可打印约200个典型中尺度结构
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XLF打印套装助力单次打印体积高达30立方厘米
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2GL®灰度光刻，实现高速且高精度表面微图案化
工业级原型制作与模具制造
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利用高效单体素调控的双光子灰度光刻技术 2GL®，实现快速原型与模具制作
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针对2.5D设计，产能提升高达100倍
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业界验证的立式平台，支持晶圆级批量处理
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配备倾斜补偿功能，通过2GL®拼接确保表面平滑、结构无缝
工业级制造
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采用2GL®双光子灰度光刻技术3D打印，兼具卓越品质与极高速度
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产能提升最高达传统2PP三维打印的60倍
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对准双光子光刻技术 A2PL®，实现光纤及光子芯片的纳米级精密对准
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支持三维对准检测，特征尺寸控制精度达100纳米
Dr. Lucas Meza, Assistant Professor, University of Washington
在桑迪亚国家实验室CINT设施测试Quantum X系统时收获颇丰。使用Photonic Professional GT打印每个结构需耗时24小时，而Quantum X将打印时间缩短至13分钟，同时显著提升了打印质量。
选择适合您的3D打印解决方案
Quantum X平台作为一款面向纳米与微纳制造的多功能方案，具备卓越的可配置性和可扩展性，能够满足工业及科研领域的多样化需求。其模块化架构让用户可根据具体应用灵活定制系统配置。该平台支持现场自动喷射打印材料，并可加工硅胶基底及直径达8英寸的硅晶圆。此外，Quantum X还能够在复杂的预制基底上进行对准打印，实现纳米级精度的结构制造。平台具备面向未来的升级能力，支持新材料引入、高级工艺及不断涌现的制造挑战，确保系统的灵活性和持续适应性。
选择并定制您的高产能Quantum X系统，满足您的专属需求。
工业制造
Quantum X align
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专为晶圆级批量加工设计的直立式自动点胶系统
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结合2GL®三维打印技术，实现高速且卓越的打印质量
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基于参考标记和三维形貌检测，实现芯片与光纤的纳米级三维精确对准
探索Quantum X litho
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直立式系统，支持晶圆级批量自动点胶
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基于2GL®单体素调控，实现高性能渐晕灰阶打印，构建2.5D形貌
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自动校准流程，确保亚微米级形状精度