Quantum X 产品线 
满足您从快速原型设计到规模化生产的全流程需求 

通过 Nanoscribe 全新一代 Quantum X 平台，迈入微纳制造的前沿。该平台基于双光子聚合（Two-Photon Polymerization, 2PP）技术，融合专利创新，如双光子灰度光刻技术（2GL®），实现行业领先的打印速度与卓越品质；以及对准双光子光刻技术（A2PL®），可在复杂基底上实现纳米级三维对准打印。 

Quantum X 系列不仅具备卓越的吞吐量、精度与重复性，还支持高效的工作流程和模块化升级选项，灵活适配不同应用需求。从超高速原型开发、母模制造、精确对准的三维打印，到晶圆级批量生产，Quantum X 为科研、开发与工业制造领域注入强大动能，助力实现从概念到规模化生产的高效转化。
 

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高性能打印材料，赋能精密微纳制造  

在 Nanoscribe，我们致力于开发适用于双光子聚合（2PP）与双光子灰度光刻（2GL®）技术的先进光刻胶，助力实现亚微米精度的2.5D 与 3D 微纳结构制造。我们的材料产品线涵盖从通用型多功能树脂到面向特定高端应用的专业配方，广泛适用于高分辨率3D打印、生物制造、光学元件加工及无掩模光刻等场景。 

针对生物打印的独特需求，我们与 BIO INX 和 Advanced BioMatrix 等合作伙伴紧密合作，共同研发具有卓越生物相容性的专业材料，满足科研与医疗等领域的严苛标准。 
 

深入了解我们的高性能光刻胶， 
为您的微纳加工项目挑选最契合的理想材料 

应用多样，材料随心，选择由您掌控。
探索我们全面的光刻胶产品组合，轻松应对各类微纳加工挑战