Quantum X 产品线
满足您从快速原型设计到规模化生产的全流程需求
通过 Nanoscribe 全新一代 Quantum X 平台,迈入微纳制造的前沿。该平台基于双光子聚合(Two-Photon Polymerization, 2PP)技术,融合专利创新,如双光子灰度光刻技术(2GL®),实现行业领先的打印速度与卓越品质;以及对准双光子光刻技术(A2PL®),可在复杂基底上实现纳米级三维对准打印。
Quantum X 系列不仅具备卓越的吞吐量、精度与重复性,还支持高效的工作流程和模块化升级选项,灵活适配不同应用需求。从超高速原型开发、母模制造、精确对准的三维打印,到晶圆级批量生产,Quantum X 为科研、开发与工业制造领域注入强大动能,助力实现从概念到规模化生产的高效转化。
选择最适合您微纳制造需求的 Quantum X 系统
并进行灵活配置
Quantum X shape
高分辨率3D打印系统
最具多功能性与优异性能的先进科研平台
Quantum X bio
高分辨率3D生物打印系统
适用于生命科学和微流控3D打印
Quantum X align
高分辨率3D光学打印系统
对准3D打印,专为集成光子学与光学应用设计
Quantum X litho
无掩膜光刻系统
支持快速原型开发、图案化与母模制造的2.5D打印解决方案
查看Quantum X 产品系列及可选扩展功能
| Quantum X shape | Quantum X bio | Quantum X align | Quantum X litho |
|---|---|---|---|---|
| Focus applications | ||||
| High-resolution 3D printing | | | | |
| High-resolution 3D biofabrication | | | − | − |
| Optics manufacturing | | − | | |
| Maskless lithography | | | | |
| Printing on dedicated scales | ||||
| Nano SF Print Set | | | | |
| Micro MF Print Set | | | | |
| Meso LF Print Set | | | | |
| Macro XLF Print Set | | | − | − |
| Printing technologies | ||||
| Two-Photon Polymerization (2PP) | | | | |
| Two-Photon Grayscale Lithography (2GL) | | | | |
| Aligned 2-Photon Lithography (A2PL) | | | | |
| 3D printing by 2GL | | | | |
| Specialized application sets | ||||
| Fiber Printing Set | | − | | |
| Chip Printing Set | | − | | − |
| Bioprinting Set | | | − | − |
| Software | ||||
| DeScribeX for 3D printing | | | | |
| GrayScribeX for 2.5D printing | | | | |
| nanoPrintX for 3D alignment & grayscale printing | | | | |
| nanoConnectX for remote control | | | | |
面向先进微纳制造应用的高性能打印材料
在 Nanoscribe,我们专注于开发用于双光子聚合与双光子灰度光刻技术(2GL®)的前沿光敏树脂,为实现具亚微米级精度的 2.5D 与 3D 微结构制造提供材料支持。我们的材料体系涵盖从多功能通用型树脂到高度专用型配方,广泛适用于高分辨率三维打印、生物制造、光学元件加工以及无掩膜光刻等领域。
除自主研发的光刻胶外,Nanoscribe 系统亦支持多种第三方材料,包括紫外固化树脂、水凝胶、纳米颗粒复合材料及定制配方。在生物打印方面,我们与 BIO INX 和 Advanced BioMatrix 密切合作,以满足生命科学应用中的特定需求。
Find the right resin for your application
高分辨率三维打印材料
最佳应用领域:
微流控、微机电系统(MEMS)、微力学、机械结构、光学器件、超材料等
高分辨率三维生物制造打印材料
最佳应用领域:
医疗器械、微针、细胞培养、组织工程、活细胞打印、微流控生物系统等
光学制造打印材料
最佳应用领域:
2.5D 与 3D 微光学结构、光互连、光纤与芯片集成微光学元件等
无掩膜光刻打印材料
最佳应用领域:
2.5D 与 3D 快速原型制作、母版模板制造、微结构图案化、晶圆级生产等
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