双光子灰度光刻3D打印split benchy小船模型 双光子灰度光刻3D打印split benchy小船模型

3D printing by 2GL®

基于独特体素调节技术的双光子灰度光刻(2GL®)为3D纳米和微纳加工高速和高精度打印树立了全新标杆

基本原理

3D printing by 2GL®

双光子灰度光刻技术拓展到3D打印

传统3D打印难以实现对于复杂设计或曲线形状的高分辨率3D打印,必须切片并分为大量水平和垂直层。这会显著增加对于平滑、曲线或精细结构的打印时间。双光子聚合技术(2PP)则可以解决这个难题。
Nanosribe于2019年推出的专利双光子灰度光刻技术(2GL®可实现体素调节,从而显著减少打印层数。这是通过扫描过程中的快速激光调制来实现的。并且,这项技术已从原先仅适用于2.5D结构拓展到三维层面。

具备出色形状精度的卓越打印品质

Nanoscribe于2023年推出双光子灰度光刻3D打印技术3D printing by 2GL®,该技术将Nanoscribe的灰度技术拓展到三维层面。整个打印过程在保持高速扫描的同时实现实时动态调整激光功率。这使得聚合体素得到精确尺寸调整,以完美匹配任何3D形状的轮廓。在无需切片步骤,不产生形状失真的要求下,最终您将获得具有无瑕疵光学级表面的任意3D打印设计的真实完美形状。

速度提升60倍 

3D printing by 2GL®是市场上基于2PP原理微纳加工技术中打印速度最快的。其动态体素调整需要相对较少的打印层次,即可实现具有光学级别、光滑以及纳米结构表面打印结果。这意味着在满足苛刻的打印质量要求的同时,其打印速度远远超过任何当前可用的2PP三维打印系统。   

2GL®作为市场上最快的增材制造技术,非常适用于3D纳米和微纳加工,在满足卓越打印质量的前提下,其吞吐量相比任何当前双光子光刻系统都高出10到60倍。

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感受2GL®双光子灰度光刻3D打印的力量 

兼顾质量和速度 

Quantum X align打印系统具备对准对准双光子光刻技术 (A2PL®),结合双光子灰度光刻技术3D printing by 2GL® ,可实现以无与伦比的打印速度和精度自动对准到光纤和芯片上并打印任何自由曲面设计结构。 

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