无掩膜光刻
为了更高效、精确地完成 2.5D 结构微纳加工
双光子灰度光刻
用于2.5D原型制作、母版制造和图案化
Quantum X litho 是一款多功能的无掩膜光刻系统，兼具卓越的设计自由度和高效的工作流程——从快速任务设置到高性能打印和后期处理，全程流畅高效。
该系统支持高通量2.5D微纳加工，应用覆盖快速原型制作、先进图案化、母模板制造以及晶圆级批量生产。
依托2GL®双光子灰度光刻技术，Quantum X litho 能够高精度制造自由曲面微光学元件、微透镜阵列、菲涅耳透镜以及兼具衍射和折射功能的混合光学器件。
无掩膜光刻，成就先进设计
Quantum X litho 同样适用于复杂微流体结构和仿生拓扑表面的图案化，包括有机纳米和微米级结构表面。
专有的2GL®技术将高通量与卓越的形状精度相结合，支持高度达1,000微米的先进2.5D设计，突破传统高度限制。
卓越的工业性能
2GL®通过快速的设计迭代加速创新，实现从概念到打印成品的亚天级交付周期。使用Quantum X litho打印的结构可无缝集成至工业复制流程，如纳米压印光刻、热压印和微注塑成型。
结合nanoPrintX共聚焦检测模块，可实现晶圆级生产中的高精度对准。可选的2GL® 3D打印模式，进一步扩展了系统向先进3D打印的能力。
灰度光刻技术2GL®
实现快速原型制作、图案化与母版制造
技术亮点与性能概览
标配功能
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通过双光子灰度光刻（2GL®）实现高速且高精度的2.5D打印
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支持在透明或不透明晶圆上进行晶圆级制造
可选功能
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基于双光子聚合（2PP）高分辨率3D打印，可用于构建复杂的纳米、微米和毫米级结构
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通过2GL® 进行3D打印，打印速度较传统2PP提高高达60倍，同时保持卓越的打印质量
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采用对准双光子光刻（A2PL®），实现在多种基底上的3D对准打印
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配备共聚焦检测模块，可实现晶圆上参考标记的自动识别与对准打印
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搭载光纤打印套件，可自动对准光纤芯，实现精准打印
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配备自动滴胶，支持高效的批量处理与晶圆级自动化生产
| 表面粗糙度 (Ra) | 可精确控制至 ≤ 5 nm |
| 特征尺寸控制 | x/y方向最小特征尺寸：可达100 nm |
| 形状精度 (Sa) | ≤ 200 nm |
| 无拼接部件直径 | 最大1,750 µm |
| 最大扫描速度 | 6.25 m/s（除以镜头放大倍率） |
只有在特定条件下，如打印参数、打印头、光刻胶和设计，才能达到给定的峰值。
| 基材 | 晶圆尺寸：1 英寸至 8 英寸（25.4 mm – 200 mm） 玻璃、硅，以及其他各类透明或不透明材料 |
| 光刻胶 | Nanoscribe 光敏聚合树脂 |
工业制造流程
通过 Quantum X litho 功能进一步提升
斯图加特大学 Harald Giessen 教授
我的首个打印任务运行得非常完美，打印出的结构好到令人惊叹，甚至可以说是前所未有。我从未见过如此出色的结果。
Quantum X litho 软件
如何启动您的打印任务
通过触控屏或远程轻松准备和控制打印任务
简单便捷的工作流程，使Quantum X litho能够轻松集成到工业制造环境和多用户使用场景中。是什么让它如此高效？您可以直接通过设备的触控屏，或在PC上远程上传、打印并监控打印作业。这只是选择Nanoscribe Quantum X litho的众多理由之一。
使用GrayScribeX轻松创建2.5D打印作业：仅需几个步骤，这款打印作业开发软件便可引导您从设计到将项目上传至Quantum X litho无掩膜光刻系统。
对于3D打印作业，我们提供两款强大的软件解决方案：DeScribeX和nanoPrintX。它们各自发挥不同的功能，满足您工作流程中的多样化需求。
通过触控屏轻松启动打印：Quantum X litho配备直观的触控屏菜单，帮助您快速完成打印操作。同时，您可以查看硬件信息、系统状态和打印进度。三路摄像头实时呈现打印过程，让您随时掌控生产细节。
通过nanoConnectX保持灵活连接：借助远程访问软件nanoConnectX，您可以在办公室启动并实时监控打印作业。凭借这些功能，Quantum X平台系统非常适合工业生产环境和多用户协作场景。
软件亮点
GrayScribeX是一款专为Quantum X微纳加工系统开发的软件，用于创建个性化的2D和2.5D打印作业。您可以导入标准的灰度图像或CAD模型，软件会自动将其转换为灰度图像。智能算法会将设计中的灰度值转换为打印对象的高度，并精准设置经过校准的打印参数。
| Key feature | Benefits |
| 16位灰度图像和CAD文件导入 | 支持导入标准图像文件（.bmp、.png）以及CAD格式（.stl） |
| 远程上传打印作业 | 实现从办公室远程连接和操作Quantum X litho |
| 添加、删除和复制结构 | 在同一文件中创建包含多种结构的打印作业 |
| 结构缩放与阵列创建 | 灵活调整结构尺寸，并根据需求生成阵列，满足不同应用的个性化要求 |
| 经过实践验证的打印参数预设 | 提供即用型参数预设，轻松实现任何灰度设计的高效打印 |
| 内部校准文件 | 自动将灰度值转换为对应的曝光写入参数 |
| .nano格式文件 | 利用集成所有必要信息的容器文件格式，实现数据交换与打印的一体化 |
通过Quantum X litho的前面板触控屏（ GUI 图形用户界面），您可以方便地控制和监控双光子灰度光刻系统。只需几个简单步骤，即可顺利完成打印：选择打印项目，加载基底，然后开始打印。
| Key feature | Benefits |
| 三路实时摄像头 | 在线监控打印过程，从三个角度随时掌握打印作业的当前状态 |
| X、Y、Z方向台面控制 | 将台面移动至基底的任意位置，灵活定义打印区域 |
| 用户友好的打印设置 | 选择树脂和基底，仅需一键即可启动打印作业 |
| 项目列表 | 全面记录和管理所有打印历史 |
| 自动界面识别 | 以亚微米精度自动检测基底界面 |
nanoConnectX是Quantum X平台系统的远程访问软件。它将触控屏的所有功能和显示界面完整呈现到任何联网电脑上。
| 主要功能 | 优势 |
| 远程访问系统 | 无论身处何地，都可将Quantum X litho与电脑连接 |
| 使用触控屏的全部功能 | 在任意地点准备、控制和监控打印作业 |
| 上传与下载打印作业及报告 | 通过电脑直接访问与打印相关的文件 |
Quantum X litho
探索更多可能
还在寻找合适的方案？欢迎与我们的产品专家 Jochen 博士预约一次20分钟的免费咨询会议，深入交流您的问题与需求。
我们也诚邀您安排一次个性化产品演示（可选择线上或现场），亲身体验 Quantum X litho 的卓越性能。