创新折射微纳光学

高精度的增材制造可打印出尖端的折射微纳光学元件。得益于双光子灰度光刻技术所具有的设计自由度和光学质量的特点,您可以进行几乎任何形状,包括球形,非球形或者自由曲面和混合的创新设计。

增材制造应用于高精度微纳光学制造

单个微纳光学元件,具备高达100%高填充系数的阵列和几乎任意形状,包括球形,非球形甚至是自由曲面光学元件等,都可以通过Nanoscribe公司的快速无掩模工艺直接打印制作,并同时可以达到光学质量表面的要求。

Nanoscribe的全新Quantum X无掩模光刻系统适用于2.5D折射微纳光学元件制作,可以实现几乎任何形状的创新设计,并具备出色的形状精度。得益于Nanoscribe的双光子灰度光刻技术(2GL®),可以根据透镜轮廓调节激光功率,从而单层打印微纳光学器件,更大的透镜制作也可以通过多层打印实现。这种方法大大缩短了打印时间。

折射微光学领域应用

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