光学超材料

 通过在亚波长尺度上构建材料，超材料和超透镜实现了对光的前所未有的控制，超越了传统折射光学的限制。这些工程化的光学元件提供了诸如消色差成像、偏振控制和紧凑的系统集成等功能，但其全部潜力往往受到制造限制的制约。

从平面纳米制造到真正的三维光子结构

传统的亚波长结构制造方法，如电子束光刻和刻蚀，通常仅限于具有低深宽比的平面几何形状，并且通常仅限于导电基板。Nanoscribe的双光子聚合（2PP）技术最初专门为光学超材料的制造而开发，它通过提供真正的三维制造、亚微米特征尺寸以及对元原子的几何形状、高度和空间排列的精确控制，克服了这些限制。

这种设计自由是先进概念的关键，例如混合消色差超透镜，其中超表面和相位元件组合成单个结构，以最大限度地减少宽光谱范围内的色差。除了平面设计之外，Nanoscribe的Quantum X系统还能够制造具有工程化光学响应的体光学超材料和光子晶体。

结合原子层沉积（ALD）、化学气相沉积（CVD）或金属涂层等后处理技术，3D打印的聚合物模板可以转化为高性能的金属或介电超材料。

用于光学超材料和超透镜的Quantum X系统

Quantum X系统提供了实现光学超材料所需的精度和3D设计自由：

• 浸入式激光光刻（DiLL）与定制光刻胶： Nanoscribe专有的DiLL技术采用折射率匹配的光刻胶，用于无像差打印高分辨率3D结构。

• 亚微米分辨率，实现光学功能： 支持在可见光、近红外（NIR）和红外（IR）波长下工作。

• 材料多样性和后处理兼容性： 支持Nanoscribe经过验证的光刻胶，用于高分辨率打印，以及第三方和定制材料，如掺钛离子的树脂。与包括ALD、CVD、蒸发和电镀在内的后处理技术兼容。

• 在基板和组件上无缝集成： 直接在晶圆、光纤、芯片和各种基板（包括非导电、不透明和透明材料）上打印，实现紧凑和集成的光学系统。

• 增强的光学性能： 对几何形状的精确控制可以改善相位控制，减少色差并提高效率。

• 高精度和可重复性： 基于振镜的定位和基于花岗岩的隔振系统确保了可重复的高分辨率结构可靠的3D打印，这对于可扩展的超光学器件制造至关重要。