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新闻发布

2026/01/14

Nanoscribe opens Shanghai Quantum X demolab

Nanoscribe, the market leader in high-precision additive manufacturing and a trusted provider of advanced microfabrication solutions for research and industrial production, has officially inaugurated its Shanghai Quantum X demolab. The event on December 26, 2025 marked the official commissioning of the Quantum X align system, making the company’s next-generation Aligned Two-Photon Lithography technology available for hands-on experience in China. The event brought together leading industry and academic experts, highlighting Nanoscribe’s growing presence and long-term commitment to the Chinese market.

Inauguration of the Shanghai Quantum X demolab (jpg | 604 KB)

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2025/12/17

Nanoscribe reaches 400 systems sold

In its 18th year of operation, Nanoscribe has reached a major milestone with the sale of its 400th system and expects strong financial results for the current year. At the same time, the company is seeing a marked increase in industrial demand for its next-generation Quantum X systems, particularly in optics manufacturing and photonics packaging. This development underscores Nanoscribe’s evolution from a pioneer in academic research to a trusted provider of high-precision microfabrication solutions for leading research facilities and industrial production environments. This is reinforced by its turnkey process-line offering and its positioning within the Lab14 Group.

Nanoscribe reaches 400 systems sold (png | 55 KB)

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2025/01/28

Nanoscribe offers new highly transparent photoresin IPX-Clear

Nanoscribe launches IPX-Clear, a photoresin tailored for high-precision micro-optics. Optimized for 3D printing by 2GL® technology and compatible with classical Two-Photon Polymerization, this material achieves remarkable transparency across the entire visible spectrum. Designed to meet the demands of broadband applications, IPX-Clear sets a new standard in optical performance to push innovation in micro-optics.

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信息中心

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Nanoscribe新闻

Nanoscribe Management Board — 作为从卡尔斯鲁厄理工学院（KIT）独立出来的公司，Nanoscribe总部位于德国卡尔斯鲁厄，是一家充满活力，屡获殊荣的科技公司。Nanoscribe是高精度增材制造领域的领导者，公司管理层也一直不断致力于技术突破和研发，如图，首席科学官兼创始人之一Michael Thiel博士（左）与首席财务官Lars Tritschler先生（中）和首席执行官兼创始人之一Martin Hermatschweiler先生（右）

Nanoscribe's Microfabrication Experience Center — 位于Nanoscribe公司总部的微纳加工体验中心有宽敞的实验室，展览室和会议室，可用于产品演示，可行性测试，并提供培训以及涵盖整个微纳加工领域话题的研讨会讲座。

Nanoscribe's maskless lithography system Quantum X — 世界上第一台双光子灰度光刻（2GL ®）系统Quantum X实现了2D和2.5D微纳结构的增材制造。该无掩模光刻系统将灰度光刻的出色性能与Nanoscribe的双光子聚合技术的精度和灵活性相结合，从而达到亚微米分辨率并实现对体素大小的超快控制，自动化打印以及极高形状精度和光学质量表面。

Nanoscribe's Photonic Professional GT2 — Nanoscribe的Photonic Professional GT2是全球最高分辨率的3D微纳加工系统。基于双光子聚合这一开创性技术，PPGT2可用于极高精度的微纳米和介观尺度结构的增材制造。Nanoscribe的打印系统结合了极高的3D设计自由度和简便操作流程的特点，可以兼容多种打印材料和基底。我们的系统服务于2000多名用户的科研实验室以及工业生产快速原型制作微纳加工。

The Demolab is the heart of the Microfabrication Experience Center at Nanoscribe's headquarters — 位于Nanoscribe总部的Demolab是微纳加工体验中心的核心。我们的黄光条件实验室配备了所有Nanoscribe生产线产品。在产品演示或（在线）培训课程中，参观者可以直观感受并接触到Photonic Professional GT2和Quantum X系统。实验室配套的生产和表征设备能更好地展示打印系统的完整工作流程。

Nanoscribe的总部大楼 - The ZEISS Innovation Hub @KIT加入了蔡司公司和卡尔斯鲁厄理工学院（KIT）的高科技团队。4,200平方米现代化的生产区和宽敞的办公室区为未来微纳加工技术和解决方案的研发提供了绝佳的工作环境。

原型制作，母版制作和工业化流程中的广泛应用

Microfluidic nozzle — Nanoscribe的微纳加工技术可实现极大的3D设计自由度。研究人员可借助该技术实现各种微流体元件制造，例如喷嘴，过滤器，混合器和毛细管泵。图示中的微流体喷嘴适用于形成射流，液滴或喷雾。

Photonic particle-accelerator — 图示中光子粒子加速器是由3D硅光子晶体内部的空气波导组成。该应用的实现得益于Nanoscribe微纳加工系统的复杂设计功能和小特征尺寸方案。© Wegener group, KIT

Miniature optical endoscope — 图片为血管内3D打印微型光学内窥镜。研究人员使用Nanoscribe的Photonic Professional系统，制造了宽度仅为125微米的新型微纳光学设备。该设备可实现对直径小于半毫米的血管进行内窥镜检查工作，以检测斑块，血栓和胆固醇晶体。© Florian Sterl, Sterltech Optics

Fresnel lens — Nanoscribe的双光子灰度光刻技术 (2GL ®)通过重新定义折射和衍射微纳光学设计范围，成就了光学设计工程的新趋势。Quantum X作为全球首款双光子灰度光刻系统，增进了对于表面光滑度有极高要求的光学器件的无掩模微纳加工，例如图片所示的用于聚焦照明的菲涅尔透镜。

Single lenses with spherical, aspherical and freeform shapes — Nanoscribe的双光子灰度光刻技术(2GL ®)可用于打印具有超光滑表面的各种形状微纳器件，重新定义了自由曲面微纳光学器件，微透镜整列和多层衍射光学元件微纳加工。如图示球形，非球形和自由曲面单透镜

Hybrid microoptics — 突破性的双光子灰度光刻技术(2GL ®)可以在一个打印过程中实现具有折射和衍射元素的混合器件。图示中混合衍射特征的折射表面微纳光学器件，通过Quantum X无掩模光刻系统一步打印而成。

尖端微纳加工技术

2PP hardware setup — 信息图展示了双光子聚合（2PP）的硬件设置。可旋转的振镜组将激光聚焦控制在XY平面上。放大的绘制图显示了如何通过将物镜直接浸入液态光刻胶来进行相差恒定打印，从而在Nanoscribe的Dip-in激光光刻技术（DILL）中达到双光子聚合反应，即使在不透明的基材上也能进行高精度的微纳加工。

Two-Photon Polymerization compared to Two-Photon Grayscale Lithography — 图示将双光子聚合（2PP）和双光子灰度光刻（2GL ®）做了对比。例如使用2PP技术打印微透镜需要将设计分成几层，从而创建透镜的形状；而使用2GL技术则可以通过在一个平面内调整体素大小来实现精确的镜片轮廓。与2PP技术相比，2GL技术打印的透镜具有更少层数更精确轮廓的特点。

one-photon absorption vs. two-photon absorption — 信息图为单光子吸收（左）与双光子（右）吸收的聚合反应对比（蓝色区域）。入射光浸入液态光敏树脂后，单光子吸收所引发的聚合反应贯穿整个曝光体积（左图），深度呈指数递减（比尔定律），而双光子吸收引发的聚合反应可以发生在极小体素的光束焦点上（右图）。由于只有焦点附近的光强达到了产生双光子吸收的光子数密度条件，所以双光子聚合反应仅发生在入射光波长里放范围的微小体积内，且双光子聚合反应与光强的平方成正比，因此可以完成极高分辨率的三维微纳加工。

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