为Quantum X打印系统专门定制
全新IPX光刻胶系列是专门为Nanoscribe Quantum X打印系统平台而设计的。这款已受工业认可的设备可用于高精度的3D打印和由创新的双光子灰度光刻技术实现的2.5D微纳加工。得益于Quantum X设备的打印速度，精度以及其他性能，适用于不同工艺及结构数量要求的新IPX光刻胶应运而生。IPX-S和IPX-Q光刻胶分别利用双光子灰度技术和双光子聚合技术来打印具有微米精度的介观尺寸结构。IPX-M 是一种光敏树脂，用于高通量宏观打印，一次打印量可达 30 立方厘米。
Alexander Quick博士, Nanoscribe材料生产与发展部门主管
IPX 光刻胶系列在Quantum X打印系统的应用中能够在保持最佳精度的同时以最大可能吞吐量实现真正的高性能打印。
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| 光刻胶 | 特性 | 应用领域 |
| IPX-S | 快速 2GL 打印，用于微米级和毫米级光学器件的 2.5D 微纳加工。具有光滑表面和形状精度的光学质量特点。 | 快速原型制作和母版制作：2.5D 微光学、微透镜阵列、菲涅耳透镜、混合和自由曲面透镜以及棱镜阵列。 |
IPX-Q | 基于 2PP 的快速 3D 微纳加工。打印厘米大小的 3D 对象。具有高纵横比和出色形状精度的零件。 | 快速原型制作：生命科学、微流体、微针、机械部件。 |
New | 高通量宏观 3D 打印，打印体积高达 30 cm³。为具有任意形状、高纵横比、大体积至厘米级的 3D 结构提供完全的设计自由度。 | 快速成型和批量生产：机械部件等 |
| 性能 | 折射率 1 @589 nm, 20 °C | 杨氏模量 1 [GPa] | 生物兼容性 | 分类/打印套组 |
| IPX-S | 1.510 | 2.2 | 可以 | 通用/LF |
| IPX-Q | 1.511 | 2.2 | 可以 | 通用/LF 和 XLF |
| IPX-M | 1.499 | 1.3 | 可以 2 | 通用/ LF |
1 在3D打印或紫外线固化结构上测量; 结果取决于打印条件和几何形状
2 光刻胶显示出轻微的反应性
打印套组：XLF – 超大特征尺寸;LF – 大特征尺寸
Nanoscribe的微纳加工设备被设计为开放式系统，可使用不同的打印材料。多样的材料选择包含第三方紫外光固化光刻胶、水凝胶和定制材料。
为了满足材料开发人员测试新树脂的需求，各种材料和工艺可以按需调整光学、机械、电气、化学和生物特性，适应在光学、光子学或生物医学工程中的应用。
打印后处理工艺，例如铸造，原子层沉积（ALD），化学气相沉积（CVD）或镀锌，可以修改3D打印结构，并可以结合其他材料，包括陶瓷，金属，玻璃或其他塑料等。
提高性能，精度和打印速度
打印材料的精准控制和便捷添加方式
我们的光刻胶更新了避光且可重复启封的包装，您可以采用手动或者自动分配的方式，将光刻胶滴在基板、晶片、芯片或其他微纳器件上即可。这种便携的添加的方式具有精准且无气泡的优势，以及以下特点：
- 高清洁度
- 便于处理和分配
- 高产量点胶
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