体验全新Quantum X
全新的Nanoscribe Quantum X系统适用于工业生产中所需手板和模具的定制化精细加工。该无掩模光刻系统颠覆了自由形状的微透镜、微透镜阵列和多级衍射光学元件的传统制作工艺。
全球首个双光子灰度光刻(2GL®)系统将具有卓越性能的灰度光刻与Nanoscribe精确灵动的双光子聚合技术结合起来。
Quantum X提供了完全的设计自由度、高速的打印效率、以及增材制造复杂结构超光滑表面所需的高精度。快速、准确的增材制造工艺极大地缩短了设计迭代周期，实现了低成本的微纳加工。
凭借着独有的产品优势Nanoscribe 新发布的Quantum X在2019慕尼黑光博会展（LASER World of Photonics 2019）荣获创新奖。
双光子灰度光刻技术
这项突破性的技术将微纳增材制造和超高速体素大小调节结合在一起：双光子灰度光刻(2GL)是一种前所未有的具有超高速、超精确的可以满足自由形态的微加工技术，同时又不影响速度和精度。
Quantum X通过实时调制激光功率的技术在扫描平面上控制体素的大小。通过这种方式，具有复杂几何形状的结构可以被制造出来，同一物体中跨尺度的细节能够实现一步打印。无论是离散的，还是连续的复杂结构均可以在最大可达6英寸的晶圆片基板上精细打印，而不需要额外的光刻步骤或掩模制造。
Quantum X向导将指导您创建打印作业。原生的加工软件可接受高达32位位深的灰度图像，可使用2GL技术直接进行打印。二维和2.5维的衍射和折射微光学具有光学质量表面和高形状精度。
为卓越的光学质量做好准备
双光子灰度光刻（2GL®）的原理是利用激光束和高速振镜的高频同步来进行单体素调谐，从而在光学质量方面实现出色的微纳加工特征和结构:
2GL技术应用于无缝结构拼接
Quantum X 系统的高精度定位组件和自校准程序可以实现拼接相邻的打印区域，在制造更大结构的同时保证出色的打印精度。2GL技术能够在打印场边界动态调整激光剂量，以补偿化学诱导的光敏聚合物收缩和定位缺陷。结合这些组合功能，可以实现在几平方厘米的区域内打印真正的无缝结构，消除所有拼接痕迹。
对光滑结构表面进行倾斜补偿
Quantum X设备应用自动界面查找器以纳米精度检衬底表面，并将结构可靠地锚定在表面上。它通过在紧密的点网格上操作自动对焦来测量衬底倾斜度，而衬底的倾斜度是通过在载物台上下移动时处理专用信号来确定的。通过将2GL技术与自动倾斜补偿结合使用来平衡各个打印模块之间的偏差，在实现光滑的结构表面的同时避免在倾斜的衬底上有拼接缝隙或阶梯效应。
想与我们一起探讨您设计的可行性吗？
欢迎联系我们并使用的我们微纳加工技术来验证您的项目。
数据解读 Quantum X
- 高速2.5维微打印速度
- 光学 质量表面和超高形状精度
- 亚微米级别分辨率打印设计自由
- 彻底地和超快速地控制体素大小
- 自动化的打印流程，例如校正、打印和实时监控
- 广泛的基材-树脂组合选择
- 按任务顺序连续进行打印
- 可触摸屏和远程电脑操控
为工业应用而生
- 折射微光学元件-单个透镜或透镜阵列
- 多层衍射光学元件 - 多达256个分立的或准连续的分层
- 2.5维微光学快速手板成型制作
- 批量制作微光学元件制作所需的聚合物母版
- 小批量生产
- 整片晶圆制造
| 打印技术 | 双光子灰度光刻(2GL) |
| 三维横向特征尺度 | 160 nm 一般; 200 nm 定义* |
| 二维横向分辨率 | 400 nm 一般; 500 nm 定义* |
| 最佳竖直方向步长 | 10 nm, 形状达到准连续级别* |
| 最小表面粗糙度 Ra | ≤ 10 nm* |
| 激光扫描速度 | from 100 to 625 mm/s* |
| 面积扫描速度 | 3 mm²/h (打印衍射光学元件时的速度）* |
* 机器能达到的最佳性能依赖于物镜的选择和所用光刻胶。
Michael Thiel博士，Nanoscribe (CSO)的首席科学官兼联合创始人
Beer定律揭示了今天的无掩模光刻设备面临的难题。Quantum X使用的是双光子灰度光刻技术，它克服了这些难题，提供了前所未有的设计自由度和易用性。我们的客户正在从事最前沿的微纳加工。
高效率的微纳3D打印
使用Quantum X无掩模光刻工艺为用户提供了灵活性和直接性。强大的光刻工艺，特制的材料和最先进的软件架构使Quantum X成为高效的微纳制造设备。Nanoscribe的无掩模光刻工艺允许选择多种基板材料，在使用Nanoscribe的IP系列光刻胶时，无须匀胶、无须预热、无须后烘，也不需要制作昂贵的掩模版。
Quantum X软件实时控制和监视打印作业，实时进行全自动校准。该控制系统在几个纳秒内精准地将激光功率调制和曝光定位同步起来，实现了灰度光刻中完全的体素大小实时调制。
绘图界面和远程用户操作界面，包括位于打印机上的触摸屏在内，进一步支持人机交互。用户可以实时查看打印作业状态、调整流程控制和实施监视打印。
最佳的光刻材料
Nanoscribe Quantum X采用了适合双光子聚合(2PP)所要求的光刻胶。集成了全自动光刻胶加注系统，能够在制造过程中自动将所需的剂量沉积在基板上。Nanoscribe的光刻胶针对双光子灰度光刻(2GL)的快速加工进行了优化，并与Quantum X极好地结合。具有以下特性:
- 针对2.5D微加工的快速2GL技术
- 简洁的操作和简单的工艺
- 无须匀胶，无须预烘，无须后烘
- 光学质量的表面和超高形状精度
- 高高宽比和高结构复杂程度，尽可能接近物理极限
Quantum X.
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