OrmoComp® 光刻胶
该杂化型光敏树脂在双光子聚合基础上的三维微纳制造中表现出卓越的光学透明性，因而在微光学器件与相关研究领域得到广泛应用。目前，OrmoComp® 可通过我方长期合作伙伴 micro resist technology 便捷获取。
高精度光敏树脂
经验证的微纳制造性能
OrmoComp® 是一种有机–无机杂化聚合物，专门针对光学与力学性能进行优化，适用于基于 2PP 技术的高分辨率三维结构加工。该材料具有优异的机械与热稳定性、极低的体积收缩率，以及便捷的即用型配方，特别适合用于微光学元件的快速原型制造。经固化后，OrmoComp® 呈现类似玻璃的特性，包括高刚性、化学耐受性及优良的光学透明度。由于其性能突出，该材料已在科研领域得到广泛验证与应用。目前，OrmoComp® 可通过我方长期合作伙伴 —— 德国 micro resist technology.GmbH 商业获取。
为高精度 2.5D 微光学而生
OrmoComp® 因其高透过率、低收缩率以及折射率 n = 1.52（20 °C, 589 nm）而在光学制造领域得到广泛应用。该材料支持复杂自由曲面与衍射光学元件的高精度制备，兼具优异的表面质量与尺寸稳定性。从微透镜阵列到先进的光子学结构，OrmoComp® 通过双光子聚合（Two-Photon Polymerization, 2PP）技术为高性能光学制造提供了所需的精度与可靠性。
OrmoComp® 的特性与应用
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折射率 (20 °C, 589 nm)：1.520
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杨氏模量：~ 2 GPa (DMA, 1Hz, 25 °C)
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高透过率（350 nm 起）
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兼具玻璃般的稳定性与聚合物材料的易加工性
高分辨率三维打印
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微机械与微机电系统
光学制造
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2.5D 微光学器件
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微透镜阵列
无掩模光刻
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母版模具制备
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快速原型开发
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精细图案化
Quantum X shape
高分辨率三维打印系统
Quantum X align
高精度三维光学打印系统
Quantum X litho
无掩模光刻系统
兼容所有 Photonic Professional 系列系统
对其他高精度打印材料感兴趣？
Nanoscribe 光敏树脂 已被广泛验证，适用于基于 双光子聚合 (Two-Photon Polymerization, 2PP) 与 双光子灰度光刻 (Two-Photon Grayscale Lithography, 2GL®) 的高精度三维微纳制造。目前，Nanoscribe 提供多种光敏树脂，覆盖纳米级、微米级及介观尺度的结构制造需求。同时，还提供多种 生物树脂 (Bioresins) 以及适用于玻璃打印的 纳米复合材料，以满足前沿科研与应用开发的多样化需求。