Nanoscribe上海Quantum X示范实验室启用，将下一代3D微制造技术引入中国

上海全新示范实验室的核心设备是Quantum X align——一款专为光纤、芯片及晶圆上的高分辨率3D激光光刻与自动对准而设计的高性能双光子光刻系统。

Nanoscribe在华发展的战略里程碑

Nanoscribe首席执行官兼联合创始人Martin Hermatschweiler通过远程连线，从德国总部强调了中国作为关键创新与工程中心的战略意义。他指出，中国在光子学、光学及先进制造领域生态系统的快速扩张，及其对创新驱动和科研成果转化的重视，使其在全球市场中占据核心地位。 

“上海Quantum X示范实验室不仅是一个本地设施，更是我们对中国市场长期承诺的里程碑，”Hermatschweiler表示，“通过将高通量双光子光刻系统引入本地，我们能够帮助客户显著缩短从研发到量产的周期，切实支撑‘实验室到产线’的技术转化，为中国前沿科技领域的高质量发展提供关键制造能力。这正是我们积极推动‘从实验室到工厂’（lab to fab）转型的实际行动。”

专有技术驱动下一代3D微纳制造

在技术主题演讲中，Nanoscribe中国区总经理崔万银博士阐述了Quantum X align如何通过Nanoscribe的专有光刻技术，解决高精度微制造中的关键挑战： 

双光子灰度光刻技术（2GL®） 通过单次扫描过程中实现连续体素调制，突破了传统双光子光刻的局限。该技术将亚微米级分辨率与显著提升的吞吐量相结合，相比传统方法，打印速度提升10至60倍，并借助超4000级灰度实现了更优的形状精度，可高效制造具有光学级精度的复杂自由曲面微光学元件和功能表面。 

双光子对准光刻技术（A2PL®） 支持在现有组件和预图案化基底（如光纤、光子芯片、晶圆）上直接进行高精度3D打印。其横向对准精度可达100纳米（相对于标记点），确保光学耦合器的精准定位，大幅降低耦合损耗，并为可扩展的光子封装流程提供支撑。 

场景化演示与学术交流

本次活动亦是一场高规格的学术研讨会。多位顶尖学者与行业专家围绕光子芯片耦合、机械超材料、X射线光学及AI辅助3D微打印等前沿领域，分享了其最新研究成果与技术进展。 

在技术报告环节后，亚太区服务经理朱玉芳进行了Quantum X align的现场演示。演示直观展现了该系统在光学级表面粗糙度（Ra ≤ 10纳米）与低公差形状精度（Sa ≤ 200纳米）下打印复杂结构的能力，印证了其在光通信、AI基础设施及医疗设备等高端应用中的成熟度。