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January 25, 2022

Nanoscribe推出用于在光纤和芯片上进行自动对准打印全新打印系统Quantum X align

Our new 3d printer Quantum X align
作为经业界公认的光刻平台,Quantum X align微加工系统推进了具有纳米精度对准功能的光子封装技术。

Nanoscribe 在旧金山举行的美国西部光电展览会上推出了Quantum X align,一款全新的高性能3D打印系统。Quantum X align是第一款具备先进3D对准功能的打印系统,可将自由曲面微纳光学元件直接打印到光纤和光子芯片上,为微纳光学元件的设计和制造设定了新的标杆。

为在芯片和光纤之间的自由空间微纳光学互连(FSMI)实现高效的光耦合,Quantum X align提供了强大而可靠的对准打印解决方案。全新打印系统为使用光纤和光束整形应用的成像技术开辟了新的天地,尤其是在光子芯片的混合封装方面。该微纳加工系统扩展了具有开创性意义的Quantum X平台功能,实现了更简洁的工艺链、更宽松的装配公差,在无需昂贵且耗时的主动对准的同时进一步缩小了设备的尺寸。
Nanoscribe首席执行官兼创始人之一Martin Hermatschweiler先生表示:“随着全新Quantum X align加入到我们经工业界认证的Quantum X平台,我们利用强大的对准技术丰富双光子聚合技术,从而推动数据通信、电信和传感应用领域不断增长的需求”。他还说到:“我们的目标是解决光子封装中高效耦合的挑战,并使高精度3D打印成为集成光子学的首选技术。”

先进的光子封装解决方案以实现未来科技

新型高精度3D打印系统为发展具备高数据处理能力的节能高效光子封装技术带来了前所未有的可能性。光子集成电路(PIC)可以以极低的功耗超越当今微电子有限的计算能力,推动人工智能或量子计算应用发展。而这类器件的制造离不开新技术的开发来实现微纳光学互连。全新Quantum X align打印系统通过创新的硬件和软件解决方案完美解决了这些挑战。基于其领先的高精度3D打印技术——双光子聚合(2PP)技术, Quantum X align 可在100纳米以下的所有空间维度实现对准精度打印。

2022年棱镜奖入围者

作为2022年制造和测试类别棱镜奖(Prism Award)的最终入围者,Quantum X align打印系统证明了这台革命性系统的创新成就。此次国际竞争的目的是为了表彰光学和光电子市场上最好的新产品。颁奖典礼将作为 SPIE西部光电展的一部分,于1月26日在旧金山举行。

作为Nanoscribe颠覆性微纳加工平台Quantum X系列中第一台具有先进3D对准功能的3D打印系统,Quantum X align 配备了高精度成像模块,用于3D绘制基底拓扑图并自动对准在所有空间方向上进行打印的结构。在3D打印过程中,微纳光学元件会自动对准光纤头、光子芯片边缘耦合器(EC)、光栅耦合器(GC)和激光二极管面,这为微纳光学元件的设计和制造设定了新的标杆。光子封装经过优化,具有以下功能:

  • 在组件级而非芯片级进行模式场自适应
  • 通过在每根光纤的顶端打印准直或聚焦光学元件,可以轻松地将光纤阵列传输到透镜光纤阵列(LFA)

纳米精度对准实现光纤和芯片打印

Quantum X align打印系统实现了自动3D光纤芯检测和自动倾斜补偿,以便在光纤或光纤阵列上进行精准打印。

作为在光子芯片上进行打印的核心功能,Quantum X align打印系统配备了共焦成像模块,以实现基底拓扑3D绘制,结合的全自动对准功能可进行标记或波导预定义。这些特点使得Quantum X align可以轻松实现将自由曲面微纳光学元件3D打印到光纤芯上,或连接到标准或定制光学芯片上的刻面或波导上。总而言之,自动对准3D打印显著减少了复杂的芯片级模场调谐,避免了主动对准,并且实现了在光学界面上自由曲面微纳光学新颖且前所未有的应用。

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