Nanoscribe作为BICO集团的一员，将于下周在德国法兰克福举行的Formnext 2021展会上展示其重大创新成果。在该首屈一指的增材制造贸易博览会上，Nanoscribe将向所有观众首次展示设备性能已被工业验证的Quantum X平台。全新Quantum X shape系统也将在展会中进行现场演示。此外，Nanoscribe还将在展位（展位号G61 12.1展厅）与专家合作伙伴举行联合会谈，概述微纳加工技术在快速原型制作、晶圆规模批量加工、母版制作和通过纳米压印光刻（NIL）和注塑成型（IM）实现复制制造的进展。
在展会期间，Nanoscribe将首次展示已被工业验证的Quantum X平台。凭借全新Quantum X shape系统，Nanoscribe作为基于双光子聚合技术（2PP）的三维微纳光刻设备世界领先者，实现了在一台设备中进行从2D到3D几乎任意形状设计的微纳加工。作为在业界已被公认的Quantum X平台系列中的第二台微加工系统，全新Quantum X shape是在同类产品中最快、最精确的高精度3D微纳光刻系统。该系统与世界上第一台用于微光学和表面图案制作的双光子灰度光刻（2GL®）系统Quantum X并驾齐驱。此外，今年Nanoscribe发布了两款全新光刻胶材料。这也意味着，微纳加工创新潜力也在随着针对不同行业和应用领域特定需求的解决方案而不断增长。
Nanoscribe 全新Quantum X shape提升了晶圆规模微纳加工性能。高精度3D微纳光刻系统可在多种基板类型和格式上进行打印，包括高达6英寸的二氧化硅和硅晶片。不同于大多数2PP系统，Quantum X shape经纵向打印，结合专利的光敏树脂滴胶模组，该功能可确保在整个打印过程甚至在大面积打印任务中精确控制打印材料剂量。因此，能够轻松在50 x 50 mm²由硅、玻璃和其他透明或不透明材料制成的晶片和显微镜载玻片等基板上实现过夜打印多达 200 个典型结构。Nanoscribe将在展会的现场演示环节提供关于Quantum X shape的工作流程和打印过程的进一步见解。
Nanoscribe 双光子灰度光刻专利技术 (2GL ®) 显著加快了适用光学应用领域的 2.5D 结构高精度微纳加工技术进程，例如自由曲面微光学器件，微透镜阵列的原型制作和母版制作，和具有最高形状精度和光学表面 (Ra ≤ 5 nm)的多级衍射光学元件等。
而将 2GL 母版制作工艺与复制技术进行结合可进一步扩大生产规模。通过运用纳米压印 (NIL) 和注塑成型 (IM)技术，Nanoscribe 已经成功试行了两种可靠且经过验证的复制策略。作为亮点，Nanoscribe 将在此次展会上分别与 EV Group 和 kdg Opticomp 进行联合演讲，更详细地解释了这两种复制方法以及经由 Quantum X平台制造微光学器件的流程。通过该演讲对 2GL 增材制造工艺短设计迭代周期的概述（即实现几天内生产用于复制的母版），能让观众直观了解到该技术将如何推进微光学制造实现大规模生产。
微纳加工技术的进步与打印材料有着密不可分的关系。今年，Nanoscribe将其光刻胶产品组合从基于聚合物的IP系列光敏树脂扩展到了用于熔融石英微纳结构3D打印的新型二氧化硅纳米复合材料，以及用于生物材料3D打印的Xpect Inx光敏树脂材料。
与德国Glassomer公司合作开发的新型GP-Silica打印材料可实现进行具有微米精度的玻璃3D打印。由于从紫外到红外光波范围的光透性，以及出色的热稳性，机械性能和化学稳定性，使得这种新材料适用于生命科学、微流体、微反应器或微光学领域。新的Xpect Inx N100系列由三种水凝胶和适用于Nanoscribe系统的可生物降解的光敏树脂组成，促进了生命科学领域，例如组织工程和细胞培养应用的3D生物材料打印发展。
在Formnext展会，Nanoscribe（展位号G61, 12.1展厅）将展示使用Quantum X系统制造的机械部件和折射微光学母版样品，以及EV集团采用纳米压印光刻技术和kdg Opticomp公司采用注塑成型技术生产的相应复制品。演示环节还将概述全新Quantum X shape系统的精简和用户友好的工作流程。展会期间还将展示来自BICO集团CELLINK公司的打印机Lumen X+™，让您对应用于生命科学领域3D打印有更直观的体验。基于DLP的3D打印机适用于各种感光树脂和生物打印。我们期待着您的莅临。
