Nanoscribe发布革命性光刻胶IPX-Clear，定义微光学3D打印新标准

IPX-Clear的推出为Nanoscribe系统用户提供了更丰富的材料选择。这一技术突破实现了可见光波段的高透射率，为宽带光学应用树立了新的行业标杆。

透光性能的重要性

IPX-Clear在可见光波段（380-780纳米）的优异透光性能，使其成为成像、传感和显示技术等微光学应用的理想选择。这种新型光刻胶可确保光学耦合器实现极低的光损耗和最优的性能表现，为光学系统提供最高效的解决方案。

"IPX-Clear集多项优势于一身，是光学领域理想的双光子聚合材料，"Printoptix首席技术官Simon Thiele博士在全面测试后表示，"它在透光性、形状保真度和表面质量等方面均超越现有材料，几乎在每一个维度都实现了性能突破。"

高精度微光学的多功能材料

IPX-Clear不仅在整个可见光波段展现出卓越的透光性能，其优异的透光特性还延伸至邻近的UVA和近红外光谱范围，为各类高透光要求的应用提供卓越的光学表现。

该材料具有卓越的加工精度，可实现亚微米级特征尺寸 ，表面粗糙度（Ra）控制在10纳米以内，确保微光学元件的高性能表现。

凭借优异的工艺适应性 ，IPX-Clear支持从微米级精密结构到毫米级光学元件的多尺度制造，为各类光学需求提供灵活高效的解决方案。

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