2光子重合用に
特別にデザイン
NanoscribeのIPレジストは、高分解能 微細造形のための標準材料として開発されました。サブミクロンの解像度と形状精度を提供し、取扱いが容易なネガ型樹脂です。
サブミクロン・フィーチャ、オーバーハング形成、光学表面仕上がり、高速メソスケール造形、生体適合性、高屈折率といった利点に基づいて、アプリケーションに最適なフォトレジストをお選びください。
IPレジストは高効率な3Dプリント材料で、Nanoscribeの微細光造形ソリューションセットに不可欠です。装置のソフトウェアは、様々なフォトレジストとアプリケーションに最適化できる高度なレシピを提供します。これらによって、3Dプリンティング・ワークフローを簡易化し、バイオミメティクス（生体模倣）や微小光学素子から、メカニカル・メタマテリアル、3D細胞スキャホールドまで、科学と産業の両用途におけるデザイン最適化に向けた繰り返し試作を加速できます。
Nanoscribe 2PPフォトレジスト
Nanoscribeのフォトレジストは、遮光した、再封可能なカートリッジで提供されます。手軽な手動投与でも、基板、ウェハ、チップなど微小パーツへの自動ディスペンシングでも、精密で気泡のない投与が可能です。
Nanoscribeでは、IPフォトレジストと呼ばれるネガ型光硬化性樹脂をラインナップしています。2光子重合（２PP）に最適化された材料で、高精細アディティブ・マニュファクチャリングに求められる優れた特性を備えています。
- 最小フィーチャ・サイズ：160nm（ティピカル）
- 高速微細造形
- 各種基板への優れた密着性
- 最適化されたメカニカル安定性と優れた形状精度
- 取り扱い簡単＆プロセス容易
- スピンコーティングや露光後ベークが不要
Nanoscribeのフォトレジストは、Photonic Professional GT2 3D光造形装置やQuantum X マスクレス・リソグラフィシステム、高性能3DプリンタQuantum X shapeでの使用に最適化されています。
Giovanna Brusatin教授（パドバ大学）
NanoscribeのIPフォトレジストは非常に高効率です。私たちはIP-Dipで複製用の金型を、IP-Sで微小なノズルを製作しています。Photonic Professional GTでは、ハイドロゲルやシロキサンなど他の材料も使用しています。
材料・プロセスの詳細
NanoscribeのIP樹脂はNanoscribeのシムステムでのみ使用可能です。ご要望に応じて、以下のIPフォトレジストも光重合開始剤無しで提供可能です：IP-Dips, IP-S, IP-Q。詳細はお問合せください。
| レジスト | 特長 | 用途 |
| New IP-PDMS | 柔らかく、柔軟で、高い弾性を有する構造体の2PPプリンティング用。 | 材料工学、ライフサイエンス、細胞・組織エンジニアリング、マイクロ流路、MEMS |
| New IP-n162 | n = 1.62の高屈折率材料。赤外域での吸収が少ないフォトレジスト。2.5Dや3D微細構造の直接造形やプロトタイピングに最適。 | 集積フォトニクス向けの3D屈折型マイクロオプティクス及びフリースペース・マイクロオプティクス |
| IP-Visio | 生体適合性、ISO 10993-3/USP 87準拠 無細胞毒性、細胞顕微鏡に適した低い自家蛍光。 | 多細胞スキャホールド、生体組織工学、バイオメディカル・デバイス、ライフサイエンス |
| IP-Q | 最大容量 100mm3 の高速造形。ディップインレーザーリソグラフィ（DiLL）専用 | バイオメディカル・エンジニアリング、機械部品、マイクロ・ラピッドプロトタイピング |
| IP-S | 生体適合性、ISO 10993-3/USP 87準拠 無細胞毒性。光学表面品質と形状精度を備えた、マイクロ/メソスケール造形用の滑らかな表面。DiLL専用。 | メカニカル・メタマテリアル、マイクロオプティクス、集積フォトニクス、マイクロ流路、細胞スキャホールド |
| IP-Dip | 当社ユーザーが評価した生体適合性と無細胞毒性、ISO 10993-5よりもいくぶん厳しい要件対応。サブミクロン形状、高アスペクト比。DiLL専用。 | フォトニック・メタマテリアル、回折光学素子、マイクロロボット |
| IP-G | 複雑な3Dデザイン（オーバーハング部など）。サブミクロン形状、低収縮率。油浸構成向け。 | バイオミメティクス/フォトニクス/マイクロロボットのオーバーハング部 |
| IP-L | 当社ユーザーが評価した生体適合性と無細胞毒性、ISO 10993-5よりもいくぶん厳しい要件対応。サブミクロン形状、低収縮率。油浸構成向け。DiLLも可。 | プラズモン、フォトニック、バイオミメティクス表面 |
| 製品 | 屈折率 1 @589 nm, 20℃ | ヤング率1 [GPa] | 劣化温度1［℃］ | 生体適合性 | 分類/プリントセット |
| IP-Q2 | 1.513 | 3.1 | 242 | n/a | 一般的造形用 / LF |
| IP-S2 | 1.515 | 2.1 | 300 | yes | 一般的造形用 / MF |
| IP-Dip2 | 1.547 | 4.7 | 362 | yes | 一般的造形用 / SF |
IP-L | 1.519 | 4.7 | 362 | yes | 一般的造形用 / SF |
| IP-G | 1.515 | 3.4 | n/a | n/a | ゾル・ゲル / SF / MF |
| IP-PDMS | 1.450 | 0.015 | n/a | yes | 特定機能用 / MF |
| IP-n162 | 1.622 | n/a | n/a | n/a | 特定機能用/ MF |
| IP-Visio | 1.511 | n/a | 282 | yes | 特定機能用/ MF / LF |
1 3DプリンティングまたはUV硬化構造での測定値。結果はプリンティング条件と形状によって異なります。
2 ご要望に応じて光重合開始剤無しで提供可能。
プリントセット：LF―ラージ・フィーチャ、MF―ミディアム・フィーチャ、SF―スモール・フィーチャ
サード・パーティ製フォトレジスト
- SU-8：ネガ型エポキシベースレジスト
- AZ® フォトレジスト：ポジ型レジスト
- ORMOCER® ポリマー：無機-有機ハイブリッド・ポリマー
特注材料
- ハイドロゲル：分解性樹脂など
- 複合材料
- 液晶エラストマー
Nanoscribeの微細造形装置は、幅広い材料を使用できるオープンシステムとして設計されています。市販のUV硬化性フォトレジスト、ハイドロゲル、ナノ粒子複合樹脂、および特注材料まで様々な材料に対応できます。
多様な材料とプロセスによって、光学的、機械的、電気的、化学的、生物的な特性（光学、フォトニクス、医用生体工学など）を必要に応じて調整出来るので、新たな樹脂を試すべく、マテリアル自体を開発される方々のニーズに応えることができます。
鋳造、原子層堆積（ALD）、化学気相成長（CVD）、メッキなどの造形後プロセスによって、成形した3D構造を改質し、セラミック、金属、ガラス、プラスチックなど、さらなる材料の包含が可能になります。
高精度でクリーンなプリント材料のディスペンシング
Nanoscribeのフォトレジストは、遮光性の再封可能なカートリッジで提供されます。手軽な手動投与でも、基板、ウェハ、チップなど微小パーツへの自動ディスペンシングでも、精密で気泡のない投与が可能です。さらに以下の特長があります。
- よりクリーンに
- 良好な取扱いとディスペンシング
- 歩留りの高いディスペンシング