Quantum X shape

为了那些最佳的革新者

从纳米到介观尺度原型制作

同类中最领先的3D打印系统。 可打印任何形状,最小尺寸可达100nm,最大面积可达25 cm²

晶圆级批量加工

具备自动滴胶功能的先进打印系统,过夜效率可达200个特征结构

开放兼容的打印材料

通用高性能双光子聚合材料,适用于高分子及玻璃打印

最快最精准的3D打印系统

Quantum X shape是一款真正意义上的全能机型。基于双光子聚合技术,该激光直写系统不仅是快速成型制作的最佳机型,同时适用于基于晶圆上的任何亚微米精度的2.5D及3D形状的规模化生产。

Front view of our Nanoscribe Quantum X shape system
Reshaping precision.

作为已被工业界认可的Quantum X平台的二代加工系统,Quantum X shape在3D微纳加工领域无与伦比的精度,比肩于Nanoscribe公司在表面结构应用上突破性的双光子灰度光刻(2GL ®)。全新的Quantum X shape的高精度有赖于其最高能力的体素调制比和超精细处理网格,从而实现亚体素的尺寸控制。此外,受益于双光子灰度光刻对体素的微调,该系统在表面微结构的制作上可达到超光滑,同时保持高精度的形状控制。

Reshaping output.

Quantum X shape不仅是应用于生物医学、微光学、MEMS、微流道、表面工程学及其他很多领域中器件的快速原型制作的理想工具,同时也成为基于晶圆的小结构单元的批量生产的简易工具。

Reshaping usability.

通过系统集成触控屏控制打印文件来大大提高实用性。通过系统自带的nanoConnectX软件来进行打印文件的远程监控及多用户的使用配置,实现推动工业标准化及基于晶圆批量效率生产。

 
技术特点概要
  • 快速原型制作,高精度,高设计自由度,简易明了的工程流程
  • 工业验证的晶圆级批量生产
  • 200 个典型中尺度结构的过夜打印量
  • 通用及专用的打印材料
  • 兼容自主及第三方打印材料
  • 使用全新XLF打印套件,一次实现打印30立方厘米部件
 
打印流程及尺寸范围
  • 基于双光子聚合的3D打印
  • 应用于快速精确表面结构的双光子灰度光刻
  • 纳米尺度打印:在任意空间方向上的特征尺寸可控,最小达100nm
  • 微观尺度打印:标准尺寸达50-700微米
  • 介观尺度打印:最大达50毫米
  • 中尺度打印 – 尺寸高达几毫米
  • 宏观尺寸打印 – XLF打印套件可加快批量生产最大体积达50 x 50 x 12 mm³的部件

Quantum X shape 的事实数据

  • 主要特征
  • 适用于
  • 技术参数
  • 下载
  • 超快体素控制和100nm处理网格的高速3D微纳加工
  • 先进的振镜轨道控制保证的最快扫描速度下的轨迹准确度
  • 透明,不透明,强反射基片上纳米精度的界面定位
  • 自动化自校准路径保证的高精度激光能量控制及定位
  • 可达6英寸的基片及硅片的广泛选择
  • 工业化批量生产:200个标准介观尺度结构的通宵产量
  • 保证实用性和体验感的触控屏及远程控制

实验室或多用户的机构中具有最高打印质量及产量要求的3D微纳加工系统,可应用于:

  • 生命科学
  • 材料工程
  • 微流道
  • 微纳力学及MEMS
  • 折射微光学
  • 衍射为光学
  • 集成光子学

为最优秀的科研及工业人才设计,可解锁以下微纳加工课题中全部潜力的设备:

  • 快速原型制作
  • 批量,小系列生产
  • 晶圆级微纳加工
标准参数
表面粗糙度 (Ra)  ≤ 5 nm 
最小特征尺寸1  100 nm
形状准确度  ≤ 200 nm
批量生产 200个标准结构的通宵产量
Single print field diameter up to ≥ 4,000 µm
最大扫描速度 6.25 m/s/透镜放大倍数2
系统基本特征
打印技术 基于双光子聚合的逐层3D打印
具有体素调节能力的双光子灰度光刻
基片

显微镜载片(3” x 1” / 76 x 26 mm2)
硅片,1” (25.4 mm) 到 8” (200 mm)
玻璃、硅及其他不透明材料

光刻胶

Nanoscribe IP胶 (聚合物打印)
Nanoscribe GP-Silica胶(玻璃打印)
兼容第三方及各类自主材料

最大打印面积 50 x 50 mm²

提供的数据可能因光刻胶及几何形状而有不同
1 各空间方向上100nm的特征尺寸可控
2 e.g. 10倍物镜放大倍率:625nm/s

Dr. Michael Thiel, Nanoscribe首席科技官及联合创始人

Dr. Michael Thiel, Nanoscribe首席科技官及联合创始人
Quantum X shape是我们制造的用于高精度3D打印及具有史无前例批量生产能力的快速精准微纳加工系统。

Quantum X shape
用我们的软件塑造您的打印作品

经行业验证的高效软件应用于晶圆级3D微纳加工

如何从你的3D设计到最终的3D打印结构?使用Nanoscribe的软件,你能快速实现成功的打印过程。生成,上传,打印,在触控屏上或从办公室电脑上远程监控打印过程

用DeScribeX生成你的3D打印文件
该款开发软件源于Describe,引导用户在几步之内完成3D CAD模型的导入直到打印文件的上传。

用GrayScribeX生成你的2.5D打印文件
该款开发软件同样能引导用户在几步之内完成文件生成到上传用户对应项目相关的.nano文件至Quantum X系统。

通过触控屏开始你的打印
直观的触控屏菜单可引导用户直至打印。设备的硬件信息,设备状态及打印状态也可在上面获取。此外,三个摄像头为用户提供了全方面的实时打印画面。

用nanoConnectX与系统保持连线
直观的触控屏菜单可引导用户直至打印。设备的硬件信息,设备状态及打印状态也可在上面获取。此外,三个摄像头为用户提供了全方面的实时打印画面。

软件数据

  • DeScribeX
  • GrayScribeX
  • 触控屏
  • nanoConnectX

DeScribeX是用于Quantum X shape打印系统的3D打印文件生成软件。集成的导入向导可导入广泛使用的3D STL文件。预装的打印参数表是每次打印尝试的良好开端,可以帮助你在几步之内完成一次成功的打印。导出功能可简单实现打印文件到Quantum X shape打印系统的远程投递。

主要特点 优势
3D CAD模型import wizard 直观的工作流程,帮助从STL文件生成合适的打印文件
打印参数预设表 成熟的预置参数表,帮助优化打印结果
可调整层间距 表面精细化处理及改善形状准确度
参数扫描 对新材料及新应用可快速找到合适的打印参数
集成开发环境 高级用户可根据特定及复杂的打印要求生成更改打印文件(GWL)
3D预览及打印模拟 所见即所得!DeScribeX显示了打印时间,打印速度及激光能量,可以详细模拟整个打印的流程
.nano文件 利用含有用于数据交换的所有必要信息的单个文件,可以成功进行打印

GrayScribeX是为了利用Quantum X打印系统进行2D和2.5D打印文件特别开发的软件。 导入的标准灰度文件或者CAD模型可被自动转换成灰度图片。智能化软件路径可将灰度值转换成设计模型中的高度值,然后准确校准打印的其他参数。

主要特点 优势
导入16bit灰度图片或者CAD文件 使用标准图片格式文件.bmp或者.png和CAD格式文件.stl
远程上传打印文件 从办公室远程和Quantum X系统交流
在打印文件中添加、移除或者复制结构 在单个文件内建立多个结构
调整结构尺寸及建立阵列 调整结构以适应不同的应用要求
调整结构尺寸及建立阵列 利用预置的参数表来直接打印任何灰度设计
内部校准文件 将灰度值转换成对应的打印参数
.nano 文件 利用包含文件的格式设计,可以将所有必要用语数据交换的信息集合到单个文件中

用Quantum X上的集成了图像化的用户界面(GUI)的触控屏来 控制和监测系统。它会在简单几步之内引导用户选择项目,装样以及成功打印。

主要特点 优势
3个实时镜头 利用三个全方位镜头实时监测打印过程;
X y z三个方向可控的平台 移动平台以到达基片上的任意位置来定义打印区域
用户友好的打印设置 选择光刻胶和基片,单击开始打印
项目列表 追踪所有打印文件的历史信息
自动界面查找功能 亚微米精度级别地确定打印界面

nanoConnectX 是 Quantum X shape系统的远程访问软件,实现将您的个人电脑远程访问到系统触控屏的所有功能。

主要特点 优势
远程访问系统 无论您身处何地您都可以实现用您的电脑远程访问Quantum X shape
使用触控屏所有功能 随时制备,控制并试试监控您的打印作业
上传和下载打印作业和报告 人电脑连接到系统打印文件的便捷性

Quantum X shape

更高精度,更高产量,更好体验感

塑造成功

 

欢迎联系我的销售专家来获取您的专属报价

Nanoscribe's Quantum X shape system
登录 Register
联系我们