Nanoscribe IP-光刻胶概述

IP光刻胶

完美匹配用于高分辨率微纳加工的打印材料,提供新包装,方便手动或自动滴胶

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专为双光子聚合设计

IP 系列光刻胶是用于超高分辨率微纳加工的标准材料。这些负胶具有亚微米级别分辨率,超高形状精度,易于操作的特点

选择最适合您应用的光刻胶并感受其带来的各种优势和特点,例如亚微米特征、悬垂部件,光学质量表面、高速中尺度制造、生物相容性或高折射率。

作为高效打印材料,IP 系列光刻胶是 Nanoscribe 微纳加工解决方案的基本配置。我们的打印系统软件提供针对不同光刻胶和应用优化的高级配方。它们使 3D 打印工作流程变得更简单,并加快了例如仿生表面、微光学元件、机械超材料或 3D 细胞支架等领域的科研和工业应用设计迭代周期。

Nanoscribe 2PP光刻胶

Nanoscribe's IP-S photoresin in a catridge

我们的光刻胶更新了避光且可重复启封的包装,您可以采用手动或者自动分配的方式,将光刻胶滴在基板、晶片、芯片或其他微纳器件上即可。

我们提供IP系列光刻胶产品线。该系列针对双光子聚合(2PP)进行了优化,并具有高精度增材制造所需的卓越性能:

  • 最小特征尺寸 160纳米
  • 高速微纳加工
  • 对各种基材具有出色的附着力
  • 优化的机械稳定性和出色的形状精度
  • 操作简单,易于加工
  • 无需旋涂或曝光后烘烤

我们的光刻胶经过优化,可与 Nanoscribe Photonic Professional GT2 3D 打印系统、Quantum X 无掩模光刻系统和高性能 3D 打印系统 Quantum X shape 配合使用。

意大利帕多瓦大学Giovanna Brusatin教授

Nanoscribe IP 系列光刻胶应用广泛且高效。使用 IP-Dip光刻胶可生产用于复制的模具,使用 IP-S光刻胶可生产微型喷嘴。针对 Photonic Professional GT系统,我们还可使用其他材料作为水凝胶或硅氧烷。

探索更多打印材料和工艺流程的细节

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光刻胶 特性 可能用于应用领域
新型
IP-PDMS光刻胶
2PP打印的具有柔软度,柔韧性和高弹性的结构 材料工程,生命科学,细胞和组织工程,微流控,微机电系统(MEMS)
全新
IP-n162
n=1.62高折射率材料;在红外范围内低吸收率;非常适合2.5D和3D微纳结构的直接打印和原型制造。 3D折射微纳光学和自由曲面微纳光学元件集成
IP-Visio 符合ISO 10993-5/USP87要求,具有生物兼容性,无生物毒素,细胞显微镜下低自发荧光的特点。 多细胞支架,组织工程,生物医学设备,生命科学。
IP-Q 高速加工可达到100立方毫米总打印体积。可用于Dip-in激光光刻技术(DiLL)。

生物医学工程,机械零件,高精度手板激光快速成型。

IP-S 符合ISO 10993-5/USP87要求,具有生物兼容性,无生物毒素的特点。用于加工具备光学质量表面和形状精度的微米和中尺度器件。专为DiLL设计。 力学超材料,微光学,集成光电子,微流道,细胞支架。
IP-Dip 我们的客户在比ISO 10993-5更严格的要求下经过验证,该材料具有生物兼容性和无生物毒素的特点,具备亚微米特征和高纵横比。专为DiLL设计。 光学超材料,衍射光学元件,微纳机器人。
IP-G 复杂的三维设计,例如,悬垂的结构。亚微米的细节尺度和低收缩率收缩。适合应用于oil immersion模式。 在仿生学、光子学、微型机器人中具有外悬结构的零件。
IP-L 我们的客户在比ISO 10993-5更严格的要求下经过验证,该材料具有生物兼容性和无生物毒素的特点,具备亚微米特征和低收缩率。专为油浸配置而设计,与DiLL兼容。 表面等离子体光子学、光学超表面和仿生表面。

Nanoscribe公司自主研发的IP系列光刻胶仅适用于Nanoscribe光刻系统。我们还可根据客户的需求提供不带光敏剂的IP系列材料:如IP-Dip,IP-S和IP-Q。欢迎联系我们获取更多相关资讯。

Properties 折射率 1 @589 nm,20 °C 杨氏模量 1 [GPa] 降解温度 1 [°C] 生物相容性 Classification / Print set
IP-Q2 1.513 3.1 242 n/a 通用/大尺度
IP-S2 1.515 2.1 300 适用 通用/中尺度
IP-Dip2 1.547 1.5 371 适用 通用/微尺度

IP-L

1.519 4.7 362 适用 通用/微尺度
IP-G 1.515 3.4 n/a n/a 溶胶凝胶 / 微尺度、中尺度
IP-PDMS 1.450 0.015 n/a 适用 功能性/中尺度
IP-n162 1.622 n/a n/a n/a 功能性/中尺度
IP-Visio 1.511 n/a 282 适用 功能性 / 中尺度、大尺度

 

1 在 3D 打印或紫外线固化结构上测量;结果取决于打印条件和几何形状
2 可根据要求提供,不含光引发剂
Print Sets:LF – 大尺度,MF – 中尺度,SF – 微尺度

Nanoscribe 的微纳加工系统兼容性高,适用多种打印材料。甚至可扩展使用到第三方紫外线固化光刻胶、水凝胶或纳米颗粒复合树脂以及定制材料等。

为了满足材料开发人员测试新光刻胶的需求,各种材料和工艺可根据需要调整光学、机械、电气、化学和生物特性,例如在光学、光子学或生物医学工程的应用中。

光刻胶全新包装

打印后期处理工艺,例如铸造、原子层沉积 (ALD)、化学气相沉积 (CVD) 或镀锌,允许修改 3D 打印结构并允许包含更多材料,包括陶瓷、金属、玻璃或其他塑料。

第三方光刻胶

  • SU-8 – 负性环氧基抗蚀剂
  • AZ ® 光刻胶——正性光刻胶
  • ORMOCER ® 聚合物——无机-有机杂化聚合物

定制材料

  • 水凝胶 - 例如,可降解树脂
  • 复合材料
  • 液晶弹性体

打印材料的精准控制和便捷添加方式

实现用手在基材上进行定量

我们的光刻胶更新了避光且可重复启封的包装,您可以采用手动或者自动分配的方式,将光刻胶滴在基板、晶片、芯片或其他微纳器件上即可。这种便携的添加的方式具有精准且无气泡的优势,以及以下特点:

  • 提高清洁度
  • 更好的处理和分配
  • 高产量分配
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