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May 17, 2022

Nanoscribe成功举办先进微纳光学主题EPIC会议

50多名欧洲微纳光学和光电子行业的专家和翘楚参加了EPIC会议。
Nanoscribe公司于5月11-12日成功举办EPIC会议。50多名欧洲微纳光学和光电子行业的专家和翘楚汇聚一堂,一起探讨微纳光学领域的最新趋势和发展,并进行了友好学术交流。

Nanoscribe公司于5月11-12日在德国卡尔斯鲁厄总部举办了有关 “Advanced Microoptics: Simulation, Fabrication & Characterization”主题的EPIC会议。超过50名与会者参加了为期两天的会议,并就微纳光学的先进制造进行演讲,包括传感器、车用照明、增强现实(AR)、虚拟现实(VR)、数据通信和消费电子等不同应用领域的案例。大会由欧洲光电产业协会秘书长 Carlos Lee先生和Nanoscribe首席执行官兼联合创始人Martin Hermatschweiler先生拉开序幕。会议分为四个部分,共有17场关于微纳光学应用的设计、制造和复制工艺方面的免费演讲向大众开放。会议结束后,我们参观了Nanoscribe微纳加工体验中心,为与会者提供了我们微纳加工系列系统和解决方案的直观体验和一手资料。

上周,50多名来自欧洲光电子产业协会(EPIC)的微纳光学和光电子行业的专家和行业翘楚汇聚在Nanoscribe位于德国卡尔斯鲁厄的总部蔡司创新中心@KIT,与Nanoscribe一起参加了主题为“Advanced Microoptics: Simulation, Fabrication & Characterization” EPIC会议 。总共17场讲座和三场主题演讲概述了微纳光学包括从设计、快速原型制造到大规模生产的整个供应链。

先进微纳光学应用在设计和制造中的挑战

第一个会议日的两场会议就先进微纳光学系统的设计和模拟以及折射和衍射微纳光学的微纳加工技术进行了各种深入探讨。两次会议都以主题演讲开始,其中一次主题演讲由Nanoscribe公司CSO兼联合创始人 Dr.Michael Thiel就增材制造技术(如我们的双光子灰度光刻技术(2GL®))如何增进微纳光学制造并有利于工业生产进行了讨论。会议概述了折射和衍射微纳光学应用的制造,还重点讨论了3D微纳光学、自由曲面微透镜、晶圆级制造,以及在纳米光子学、激光和内窥镜等众多领域的潜在高效应用。

复制工艺应用于扩大微纳光学制造规模

微光学制造业的另一个挑战是大规模生产,而复制工艺是这一过程中的关键因素和重要解决方案。在第二天会议日的两场会议上,会议就纳米压印光刻(NIL)、注塑成型和整体成型等传统复制技术进行了讨论。其中包括,Nanoscribe公司通过与EV集团和kdg opticompd的合作,将基于2GL技术的微纳光学母版制作与NIL和注塑成型工艺相结合进行复制,形成可靠且成熟的工艺链。这些小组会议的进一步讨论集中在先进微纳光学(如自由曲面透镜和金属透镜)的制造和大规模生产中的挑战。此外,会议还侧重于微纳光学器件的计量和表征。

深入了解Nanoscribe的微纳加工解决方案和系列打印系统

我们的亮点之一是向所有与会者展示我们的微纳加工体验中心,并向他们介绍我们的高精度增材制造技术。在我们展厅和实验室参观环节,我们提供了有关创新微纳光学应用展示,并就如何将增材制造技术完美结合于快速成型和制造高度复杂的微纳光学应用进行探讨和交流。

更多关于Nanoscribe微纳加工技术

如果您还想进一步了解我们的微纳加工技术和应用场景,欢迎您加入我们的资源库。除了网络研讨会之外,在我们的高级资源库,我们还为您提供关于双光子聚合(2PP)和双光子灰度光刻(2GL®)白皮书,以及Nanoscribe系列打印系统和光刻胶产品的独家数据资料和详细介绍。此外,您还可以通过关键字检索功能,在资料库中搜索您所需特定应用领域的有关我们客户的数百份科学出版物。

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