母版设计与复制工艺

Nanoscribe灰度光刻系统Quantum X是制造高精度2.5D拓扑图的理想工具,对于需要大批量重复性制作的原件,Quantum X是完美的制造主体模板设备。凭借着无可比拟的精度和准确性,它们因此才能够大规模生产自由形态的微光学、微透镜阵列或衍射光学元件。

从快速原型设计到大规模生产

Quantum X是世界上首台双光子灰度光刻(2GL)系统,可用于折射和衍射微光学的无掩模微纳加工。得益于单象素调谐能力和高性能振镜扫描技术,以最高的速度制造光学级的光滑表面。因此,Quantum X成为了在6英寸以下晶圆上进行小批量生产和快速制作自由形状的微光学器件、微透镜阵列或先进的衍射元件的理想工具。

为了满足不断扩大的技术市场和对复杂的微光学元件的不断增长需求,如传感器、小型化设备、增强现实应用或消费类型的电子产品,需要大批量制造工艺和大规模生产这些元件。在这种情况下,注塑成型或纳米压印光刻(NIL)等复制技术就可以为大规模生产提供了成熟的制造工艺。这些技术通过使用由主模板形成的工作印章或成型工具,就可以用最高精度复制2.5D拓扑结构。

NIL技术开发的初衷是为了进行学术研究,主要是为了能够复制具有纳米级特征结构。在过去的几十年里,该技术逐渐成熟,并成为工业界公认的用于大批量生产晶圆级结构的微纳加工技术。

注塑成型技术是一种成熟的工业工艺,用于将大批量、宏观尺度的物体复制成高精度的微观尺度的物体。高精度注塑成型能够制如微光学元件等具有亚微米特征的物体。该技术可作为一种连续的制造方法进行大规模生产具有亚微米特征的结构。

Quantum X完美地融合了现有的复制工艺链,以用于大批量制造和大规模生产。凭借其单象素调谐能力,这种灰度光刻系统可以实现制作具有极高设计自由度和亚微米级别分辨率的2.5D微纳结构,并支持高效快速成型和高精度母版制作。Quantum X经多次验证可完美应用在工业复制工艺链。

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